宇宙航空研究開発機構

最新吸着技術便覧 : プロセス・材料・設計

竹内雍監修 ; 糸賀清 [ほか] 編集委員. -- エヌ・ティー・エス, 1999. <TW00008731>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 本社 本社図書館2F 668.3(03)||T||22604 10283824 禁帯出 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 本社
配置場所 本社図書館2F
請求記号 668.3(03)||T||22604
資料ID 10283824
状態 禁帯出
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 最新吸着技術便覧 : プロセス・材料・設計 / 竹内雍監修 ; 糸賀清 [ほか] 編集委員
サイシン キュウチャク ギジュツ ベンラン : プロセス ザイリョウ セッケイ
出版・頒布事項 東京 : エヌ・ティー・エス , 1999.1
形態事項 4, 20, 867, 21p ; 27cm
巻号情報
ISBN 4900830348
注記 その他の編集委員: 迫田章義, 古谷英二, 森下悟, 安武重雄.
学情ID BA39838180
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 竹内, 雍||タケウチ, ヤスシ <AU00012655>
著者標目リンク 糸賀, 清||イトガ, キヨシ <AU00013058>
著者標目リンク 迫田, 章義||サコダ, アキヨシ <AU00013057>
著者標目リンク 古谷, 英二||フルヤ, エイジ <AU00013059>
著者標目リンク 森下, 悟||モリシタ, サトシ <AU00013060>
著者標目リンク 安武, 重雄||ヤスタケ, シゲオ <AU00013061>
分類標目 化学工学.化学機器 NDC8:571.5
分類標目 化学工学.化学機器 NDC9:571.5
分類標目 科学技術 NDLC:PA161
件名標目等 吸着 -- 便覧||キュウチャク -- ベンラン
件名標目等 吸着||キュウチャク